日前，南大光電公告披露，公司作為牽頭單位，承擔的國家科技重大專項（02專項）“極大規模集成電路制造裝備及成套工藝”之“先進光刻膠產品開發與產業化”項目（以下簡稱“項目”），今日收到極大規模集成電路制造裝備及成套工藝實踐管理辦公室下發的項目綜合績效評價結論書，項目通過了專家組驗收。

 

據介紹，項目總體目標是開發高端集成電路制造用ArF干式與浸沒式光刻膠成套工藝技術，形成規模化生產能力；構建與集成電路行業國際先進水平接軌的技術和管理人才團隊，建立完善的技術開發、生產運行、品質管理、市場開拓運行體系和ArF光刻膠產業自主發展相應的知識產權體系。

 

該項目分為三個子課題，其中公司控股子公司寧波南大光電承接的課題名為：ArF光刻膠產品的開發和產業化。該子課題主要在以下方面開展研究：1、ArF光刻膠產品配方及工藝的開發；2、配方關鍵組分材料的開發；3、ArF光刻膠產品及關鍵組分的分析測試能力的研究；4、ArF光刻膠的產業化研究。

 

公告指出，專家組同意項目通過績效評價驗收。驗收專家組認為：1、光刻膠是集成電路生產過程中的關鍵材料，通過本項目的實施，掌握了ArF干式和浸沒式系列光刻膠產品的原材料制備、配膠、分析檢測、應用驗證等關鍵技術，在知識產權和人才培養等方面取得重要進展。形成了由51人組成的ArF光刻膠研發與生產管理團隊，建成了ArF光刻膠產品（包括干式和浸沒式）的質量控制平臺、年產5噸的干式ArF光刻膠及年產20噸的浸沒式ArF光刻膠產業化生產線；建立了科研經費管理相關的財務制度，并能有效執行；申請專利91項，其中國內發明專利81項，國際發明專利4項，實用新型專利6項（已授權），制定團體標準3項，研制新產品2項；實現ArF光刻膠產品銷售，完成了任務合同書規定的主要考核指標。這是我國集成電路關鍵材料自主創新的一個重要成果。

 

2、寧波南大光電已建成年產25噸ArF光刻膠產業化基地，具備進一步擴大生產的能力，建議抓住機遇，盡快擴產。

 

南大光電表示，ArF光刻膠材料是集成電路制造領域的重要關鍵材料，可以用于90nm-14nm甚至7nm技術節點的集成電路制造工藝，廣泛應用于高端芯片制造（如邏輯芯片、存儲芯片、AI芯片、5G芯片和云計算芯片等）。長期以來，國內高端光刻膠市場長期為國外巨頭所壟斷，對我國芯片制造具有“卡脖子”風險。盡快實現先進光刻膠材料的全面國產化和產業化具有十分重要的戰略意義和經濟價值。本項目研發任務的圓滿完成，預計將對公司光刻膠事業的未來發展產生積極影響。