近日，中微半導體設備（上海）股份有限公司推出自主研發的12英寸低壓化學氣相沉積(LPCVD)設備Preforma Uniflex™ CW。這是中微公司深耕高端微觀加工設備多年、在半導體薄膜沉積領域取得的新突破，也是實現公司業務多元化增長的新動能。

中微公司12英寸低壓化學氣相沉積產品Preforma Uniflex™ CW

作為中微公司自主研發的產出效率高且性能卓越的12英寸LPCVD設備，Preforma Uniflex™ CW可靈活配置多達五個雙反應臺反應腔（十個反應臺），每個反應腔可以同時加工兩片晶圓，在保證較低的生產成本和化學品消耗的同時，實現更高的生產效率。

Preforma Uniflex™ CW, 作為中微公司自主研發的LPCVD設備，配備了完全擁有自主知識產權的優化混氣方案及加熱臺, 具有優秀的薄膜均一性、填充能力和工藝調節靈活性，對于彎曲度較大的晶圓，它也具備良好的工藝處理能力。并且其優異的階梯覆蓋率和填充能力，可以滿足先進邏輯器件、DRAM和3D NAND中接觸孔以及金屬鎢線的填充應用需求。

探索不息，創新不止。中微公司推出的Preforma Uniflex™ CW是公司創新之路的又一里程碑。一直以來，中微公司踐行“四個十大”的企業文化，將產品開發的十大原則始終貫穿于產品開發、設計和制造的全過程，研發團隊秉持為達到設備高性能和客戶嚴格要求而開發的理念，堅持技術創新、設備差異化和知識產權保護。“這款LPCVD設備不僅擁有完整、自主的知識產權，還創造了中微公司新設備研發速度的新紀錄。”中微公司集團副總裁、LPCVD 產品部和公共平臺工程部總經理陶珩說:”自該款LPCVD設備研發立項以來，僅用不到半年時間，我們就完成了產品設計、生產樣機開發和實驗室評價，目前已順利導入客戶端進行生產線核準。”

如今，數碼產業已成為國民經濟的兩大支柱之一，正在徹底改變人類的生產和生活方式。中微公司董事長兼總經理尹志堯博士表示，“數碼強，則國強；數碼弱，則國弱。半導體微觀加工設備正是數碼產業的基石，是發展集成電路和數碼產業的關鍵。工欲善其事，必先利其器，加工微米及納米級微觀器件的設備對發展集成電路與微器件工業、促進數碼產業發展至關重要。此次我們推出LPCVD新產品，在等離子體刻蝕設備和MOCVD設備的基礎上，進一步拓展了公司的產品線布局，也增強了半導體設備的自主可控性。未來公司也將繼續瞄準世界科技前沿，堅持三維發展戰略，推出更多自主設計的半導體設備，為促進數碼產業發展貢獻力量。”

自2004年成立以來，中微公司致力于開發和提供具有國際競爭力的微觀加工的高端設備，現已發展成為國內高端微觀加工設備的領軍企業之一。未來，公司將繼續打造更多具有國際競爭力的技術創新與差異化產品，為客戶和市場提供性能優越、生產效率高和性價比高的設備解決方案。

關于中微半導體設備（上海）股份有限公司

中微半導體設備（上海）股份有限公司（證券簡稱：中微公司，證券代碼：688012）致力于為全球集成電路和LED芯片制造商提供領先的加工設備和工藝技術解決方案。中微公司開發的等離子體刻蝕設備和化學薄膜設備是制造各種微觀器件的關鍵設備，可加工微米級和納米級的各種器件。這些微觀器件是現代數碼產業的基礎，它們正在改變人類的生產方式和生活方式。中微公司的等離子體刻蝕設備已被廣泛應用于國際一線客戶先進工藝的眾多刻蝕應用，中微公司開發的用于LED和功率器件外延片生產的MOCVD設備已在客戶生產線上投入量產，目前已在全球氮化鎵基LED MOCVD設備市場占據領先地位。

(來源：中微公司)