12月28日消息，據國家知識產權局公告，臺灣積體電路制造股份有限公司取得一項名為“清潔半導體襯底的方法“，授權公告號CN109585262B，申請日期為2017年12月。
專利摘要顯示，本發明的實施例提供一種清潔半導體襯底的方法。所述方法包括以下步驟：在以第一旋轉頻率旋轉所述半導體襯底的同時，向所述半導體襯底的頂表面上施加第一藥劑；在以第二旋轉頻率旋轉所述半導體襯底的同時，將所述半導體襯底浸沒在第二藥劑中；以及在向所述半導體襯底的所述頂表面上引入第三藥劑的同時，以第三旋轉頻率旋轉所述半導體襯底。所述第一旋轉頻率可大于所述第三旋轉頻率且所述第三旋轉頻率大于所述第二旋轉頻率。在一些實施例中，所述第二旋轉頻率為零，且所述半導體襯底在所述浸沒步驟期間保持靜止。
