2024年4月9-11日，一年一度化合物半導體行業盛會——2024九峰山論壇暨中國國際化合物半導體產業博覽會（簡稱“JFSC＆CSE”）將于武漢光谷科技會展中心舉辦。湖南興晟新材料科技有限公司將攜新品亮相本屆盛會，誠邀業界同仁蒞臨A304展臺參觀、交流合作。
本屆CSE博覽會由第三代半導體產業技術創新戰略聯盟、九峰山實驗室共同主辦，以“聚勢賦能 共赴未來”為主題，將匯集全球頂尖的化合物半導體制造技術專家、行業領袖和創新者，采用“示范展示+前沿論壇+技術與商貿交流”的形式，為產業鏈的升階發展搭建供需精準對接平臺，助力企業高效、強力拓展目標客戶資源，加速驅動中國化合物半導體產業鏈的完善和升級。
CSE作為2024年首場國際化合物半導體產業博覽會得到了多方力量的大力支持，三大主題展區，六大領域，將集中展示各鏈條關鍵環節的新技術、新產品、新服務，將打造化合物半導體領域的標桿性展會。助力打造全球化合物半導體平臺、技術、產業的燈塔級盛會，集中展示化合物半導體上下游全產業鏈產品，搭建企業發布年度新產品新技術的首選平臺，支撐產業鏈及中部地區建設具有全球影響力的萬億級光電子信息產業集群。
湖南興晟新材料科技有限公司是一家專業從事高溫、高純、耐腐蝕材料研發及生產的高科技企業。在創新創業團隊的緊密協作下，扎根涂層及陶瓷基復合材料二十余載，率先開發出適合于規模化生產的涂層制備技術與工藝裝備。掌握了制造CVD SiC涂層、TaC涂層及陶瓷基復合材料等核心技術。公司為LED、光伏、半導體、冶金、電子等行業的MOCVD裝備、單晶硅爐、PECVD爐、單晶SiC爐、單晶GaN爐及第三代半導體外延爐、氧化爐、離子注入機、刻蝕機等關鍵裝備提供耐溫、耐腐、高純部件/耗材，并為用戶產品質量優化、設備性能提升提供高溫高純材料/部件解決方案。
產品介紹
托盤基座：碳化硅外延設備用產品，高純石墨+CVD SiC涂層，SiC涂層厚度100μm，石墨雜質含量≤5ppm，涂層雜質含量≤5ppm。
勻氣環：硅外延設備用產品，高純石墨+CVD SiC涂層，SiC涂層厚度100μm，石墨雜質含量≤5ppm，涂層雜質含量≤5ppm。
長晶環：碳化硅長晶用產品，高純石墨+CVD TaC涂層，TaC涂層厚度30μm，石墨雜質含量≤5ppm，涂層有害雜質元素含量≤5ppm。
聯系電話（TEL）：
0731-28100884
17742519565 李先生（Mr. Li）
13347319728鄧先生（Mr.Deng）
Email：hnxs2015@126.com
網站：www.xs-hitechmaterials.com
地址：湖南省株洲市石峰區聯城路79號軌道智谷三期3號廠房
值此之際，我們誠邀業界同仁共聚本屆盛會，蒞臨展位現場參觀交流、洽談合作。
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