中微公司官微消息，近日，中微半導體設備（上海）股份有限公司（以下簡稱“中微公司”）的電容耦合等離子體（CCP）刻蝕設備第3000臺反應腔順利付運國內一家先進的半導體芯片制造商。這一重要里程碑標志著中微公司刻蝕設備的優異性能、機臺穩定性和高效的量產能力已得到客戶與市場的廣泛認可。 

自首臺CCP刻蝕設備發布以來，中微公司不斷拓展CCP刻蝕設備產品線，以滿足先進的芯片器件制造日益嚴苛的技術需求。CCP刻蝕設備系列包括單反應臺刻蝕設備Primo SSC AD-RIE®、Primo HD-RIE®，雙反應臺刻蝕設備Primo D-RIE®、Primo AD-RIE®和刻蝕及除膠一體化的 Primo iDEA®。這些產品為客戶提供了全面綜合的解決方案，用于65納米至5納米及以下工藝的多種應用。中微公司的刻蝕設備產品線還包括其他多款電感耦合低能等離子體（ICP）刻蝕設備和硅通孔（TSV）刻蝕設備。目前，中微公司累計已有超過700臺ICP和TSV設備在國內外生產線實現量產。   

憑借獨特的技術創新和差異化設計，中微公司刻蝕設備不斷擴大市場占有率，在國內外半導體前道設備行業占據優勢地位。2023年，中微公司營業收入約62.64億元，較2022年增加約15.24億元，同比增長約32.15%。其中，2023年刻蝕設備銷售約47.03億元，同比增長約49.43%。此前，占公司營業收入約75.1%的刻蝕設備在2021年和2022 年分別增長了55.4%和57.1%。公司2023年新增訂單總金額約83.6億元，較2022年的63.2億元增加約20.4億元，同比增長約32.3%，其中刻蝕設備新增訂單達到69.5 億元，同比增長約60.1%。此外，中微公司綜合競爭優勢不斷增強，各項營運指標已達到國際先進半導體設備企業水平。在過去的十年中，公司的營業收入一直以高于35%的年平均增長速度持續增長。 

中微公司董事、集團副總裁、刻蝕和外延產品部總經理叢海談及這一付運里程碑時表示，中微公司緊跟先進制程工藝發展的最前沿，在產品開發、設計和制造過程中，始終強調創新和差異化，也正是中微公司的領先技術及專業服務使我們的設備產品贏得了客戶的青睞。未來，我們也將持續貫徹中微公司“四個十大”的企業文化，深化實踐“產品開發的十大原則”，不斷為客戶和市場提供性能卓越 、高效節能的高端設備產品。