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三安半導(dǎo)體“氮化鎵功率器件的制備方法、氮化鎵功率器件”專利公布

日期:2024-07-03 閱讀:264
核心提示:天眼查顯示,湖南三安半導(dǎo)體有限責(zé)任公司氮化鎵功率器件的制備方法、氮化鎵功率器件專利公布,申請(qǐng)公布日為2024年7月2日,申請(qǐng)公

天眼查顯示,湖南三安半導(dǎo)體有限責(zé)任公司“氮化鎵功率器件的制備方法、氮化鎵功率器件”專利公布,申請(qǐng)公布日為2024年7月2日,申請(qǐng)公布號(hào)為CN118280836A。

本申請(qǐng)?zhí)峁┝艘环N氮化鎵功率器件的制備方法、氮化鎵功率器件;該制備方法包括:提供半導(dǎo)體襯底,在半導(dǎo)體襯底中的第二半導(dǎo)體層的上表面形成間隔設(shè)置的蓋帽層、源極和漏極;在第二半導(dǎo)體層的上表面形成第一介質(zhì)層;在第一介質(zhì)層的上表面形成第二介質(zhì)層,其中,第二介質(zhì)層的材料包括水氧基氧化鋁;在第二介質(zhì)層對(duì)應(yīng)蓋帽層的區(qū)域形成貫穿第二介質(zhì)層的第一開(kāi)口;在第一開(kāi)口內(nèi)形成第三介質(zhì)層,其中,第三介質(zhì)層的材料包括臭氧基氧化鋁。具體的,通過(guò)在第一開(kāi)口內(nèi)形成第三介質(zhì)層,利用第三介質(zhì)層的強(qiáng)氧化作用,能夠使后續(xù)刻蝕將蓋帽層表面的第一介質(zhì)層刻蝕干凈,以此在后續(xù)工藝形成柵極時(shí),能夠增加?xùn)艠O漏電,減小閾值電壓,提高器件性能。

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