天眼查顯示，新美光（蘇州）半導(dǎo)體科技有限公司近日取得一項(xiàng)名為“襯底加熱體組件及化學(xué)氣相沉積設(shè)備”的專利，授權(quán)公告號(hào)為CN118374794B，授權(quán)公告日為2024年11月5日，申請(qǐng)日為2024年6月26日。

本發(fā)明涉及一種襯底加熱體組件及化學(xué)氣相沉積設(shè)備，其中提供了一種襯底加熱體組件，包括襯底和加熱體，襯底包括第一表面、第二表面和中空區(qū)，第一表面和第二表面均用于供反應(yīng)氣體沉積，中空區(qū)位于第一表面和第二表面之間；加熱體位于中空區(qū)內(nèi)，用于產(chǎn)生熱量以至少加熱第一表面和第二表面。本發(fā)明的襯底設(shè)計(jì)為內(nèi)部中空的結(jié)構(gòu)，第一表面及第二表面均為襯底靠近中空區(qū)部分的外表面，位于中空區(qū)的加熱體對(duì)襯底的第一表面和第二表面沿徑向的各個(gè)位置的加熱效果相對(duì)較為平均，不容易產(chǎn)生沉積的產(chǎn)品厚度差異過大的問題，一定程度上提高了襯底上沉積材料的厚度均一性及組織性能均勻性。