碳化硅作為一種高性能材料，因其獨特的物理和化學性質，在半導體行業中，特別是作為涂層材料時，展現出了顯著的優勢。一代材料，一代裝備；一代材料，一代創新。山西轉型綜改示范區入區企業山西中電科公司瞄準國內半導體市場需求，自主研發了碳化硅化學氣相沉積裝備，技術指標達到行業領先水平，可為半導體關鍵設備核心部件涂上碳化硅材料外衣，助力設備更好支撐我國半導體產業發展。

半導體設備在半導體產業中扮演著至關重要的角色，是芯片制造的“硬核工具”，而為這些硬核工具所需的關鍵部件涂上涂層“外衣”的設備可謂“幕后英雄”，是整個半導體產業鏈中不可或缺的組成部分。山西中電科公司自主研發的碳化硅化學氣相沉積裝備，就是執行這一涂層工藝的關鍵設備，可為現在需求量日益增加的硅/碳化硅外延設備、金屬有機化學氣相沉積設備、刻蝕機等設備的核心部件進行碳化硅涂層制備。

該裝備有臥式和立式兩種爐體形式，采用高精度溫控系統，實現對沉積腔室溫度的精準調控；搭配高效真空系統，利用熱場/流場數值模擬技術，對工藝過程進行仿真分析。設備經過多次工藝優化調試，生產效率大幅提升，順利實現涂層制品純度≥99.9999%，碳化硅涂層制品厚度100μm±10%，主要晶型、晶向、硬度等關鍵技術指標達到國內領先水平。目前，設備已獲得國內多家行業頭部客戶的應用和認可。

據悉，山西中電科公司將堅持技術創新，利用已有技術積淀，繼續研發碳化鉭化學氣相沉積裝備、熱解石墨氣相沉積裝備、碳化硅塊體氣相沉積裝備等，持續擴大產品矩陣，引領半導體領域氣相沉積裝備快速發展，助力我國半導體產業向更高水平邁進。

（來源：光明日報客戶端）