日前，華特氣體與四川紅華實業(yè)正式簽訂了高純三氟化氯生產技術合作開發(fā)協(xié)議。其中，四川紅華實業(yè)為中國核工業(yè)集團有限公司全資孫公司。
據華特氣體官網中描述，高純三氟化氯是一種新型蝕刻材料，主要用于芯片制程中的蝕刻、硅片和腔體清洗過程。且由于其氟碳比較高，氟離子自由基較強，這一氣體在先進制程中的應用愈加廣泛，特別在14nm以下制程中具有不可替代的作用。
同時，華特氣體認為，相比于普通的氟碳蝕刻材料，高純三氟化氯的GWP值（全球變暖潛能值）極低，滿足了未來芯片制程向更環(huán)保、更可持續(xù)方向發(fā)展的需求。而此前，高純三氟化氯產品市場主要為日本、美國企業(yè)所壟斷，國內較少見到高純三氟化氯可用于芯片制程的報道。
對于此次合作，華特氣體表示，紅華實業(yè)技術研發(fā)能力強、檢測手段齊全，雙方共同研發(fā)高純三氟化氯相關核心技術，能夠在這一領域打破國外壟斷，快速實現(xiàn)進口替代。未來，隨著半導體工藝的不斷升級迭代，高純三氟化氯在芯片制造、第三代半導體、面板等領域將擁有更廣闊的市場潛力。
