英特爾公布將采用下一代極紫外光刻（EUV）技術的計劃，即高數值孔徑（High-NA）EUV。借此，英特爾有望率先獲得業界第一臺High-NA EUV光刻機。據悉，英特爾正在與ASML深入合作以確保攻關這一技術，并稱將超越當前一代EUV。在時間表上，英特爾將其劃歸在2025年以后。