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三星已開始使用極紫外光刻技術量產14納米DRAM芯片

日期:2021-10-12 來源:TechWeb閱讀:282
核心提示:今日,存儲芯片制造商三星電子宣布,它已開始使用極紫外光刻(EUV)技術量產業界最小的14納米DRAM芯片。
據國外媒體報道,存儲芯片制造商三星電子今日宣布,它已開始使用極紫外光刻(EUV)技術量產業界最小的14納米DRAM芯片。
 
三星電子表示,EUV技術減少了多圖案繪制中的重復步驟,提高了圖案繪制的準確性,從而提高了性能和產量,縮短了開發時間。
 
利用最新的DDR5標準,三星14納米DRAM將幫助解鎖前所未有的高達7.2Gbps的速度,這是DDR4速度(3.2Gbps)的2倍多。
 
該公司表示,即將開始量產DDR5,并預計最新工藝將使生產率提高20%,功耗降低近20%。
 
據悉,三星是全球最大的存儲芯片和智能手機制造商之一。在近日舉辦的晶圓代工論壇上,該公司宣布,將從2025年開始量產2nm芯片,并計劃從2022年上半年開始生產客戶設計的3nm芯片,第二代3nm芯片預計將在2023年生產。 
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