拓荊科技本次擬在上交所科創板公開發行新股不超過3161.98萬股，且不低于發行后公司總股本的25%，擬募集資金10億元，其中7986.46萬元擬用于“高端半導體設備擴產項目”，3.99億元擬用于“先進半導體設備的技術研發與改進項目”、2.71億元擬用于“ALD設備研發與產業化項目”、2.50億元擬用于“補充流動資金”。

 

拓荊科技主要從事高端半導體專用設備的研發、生產、銷售和技術服務。公司主要產品包括等離子體增強化學氣相沉積(PECVD)設備、原子層沉積(ALD)設備和次常壓化學氣相沉積(SACVD)設備三個產品系列，已廣泛應用于國內晶圓廠14nm及以上制程集成電路制造產線，并已展開10nm及以下制程產品驗證測試。

 

不過，科創板上市委提出三大問詢。其一是，請拓荊科技代表結合報告期內銷售價格折讓、負毛利率、長庫齡發出商品、驗收周期加長等情況，說明對發出商品計提存貨跌價準備的充分性。

 

其二是，請拓荊科技代表說明：共青城盛夏引入不適格投資者，不再滿足私募基金備案條件以及進入清算程序，是否對其合法持有公司的股權及發行人的運作、公司治理構成重大影響；同時，共青城盛夏和潤揚嘉禾之間的糾紛是否對公司運作和公司治理構成重大影響，公司是否已就該糾紛披露了完整的信息。

 

其三是，員工持股平臺借款的還款方式表明相關持股安排實質上構成一項股票期權。請拓荊科技代表結合股票期權的期限、預計波動率等因素，按期權定價模型量化分析該期權的公允價值，并匡算報告期內股份支付費用的金額；另外，按照市場利率匡算報告期內員工持股平臺應承擔的利息費用，并補充說明發行人未確認相應的職工薪酬費用是否符合企業會計準則的規定。

 

資料顯示，拓荊科技主要從事高端半導體專用設備的研發、生產、銷售和技術服務。公司聚焦的半導體薄膜沉積設備與光刻機、刻蝕機共同構成芯片制造三大主設備。拓荊科技產品已廣泛用于、集團、長江存儲、長鑫存儲、廈門聯芯、燕東微電子等國內主流晶圓廠產線，累計發貨超150套機臺。公司憑借長期技術研發和工藝積累，打破國際廠商對國內市場的壟斷，與國際寡頭直接競爭。報告期內，公司在研產品已發往某國際領先晶圓廠參與其先進制程工藝研發。

 

2018年至2021年第一季度，拓荊科技實現營業收入分別為7,064.40 萬元、 25,125.15 萬元、43,562.77 萬元和 5,774.10 萬元；同期凈利潤分別為-10,322.29萬元、-1,936.64萬元、-1,169.99萬元及-1,058.92萬元，扣除非經常性損益后歸屬于母公司所有者的凈利潤分別為-14,993.05萬元、-6,246.63萬元、-5,711.62萬元和-2,400.90萬元。

 

拓荊科技表示，報告期內尚未實現盈利，主要由于半導體設備行業技術含量高，研發投入大，產品驗證周期長，公司持續進行了大量的研發投入。

 

報告期內，拓荊科技研發費用分別為10,797.31萬元、7,431.87萬元、12,278.18萬元和2,714.86萬元，占各期營業收入的比例為152.84%、29.58%、28.19%和47.02%。其指出，2018年度研發投入占營業收入比例超過100%系營業收入較小所致。

 

其凈利潤出現虧損，除了研發投入外，其ALD、SACVD設備貢獻營收較少有很大的關聯，報告期內，拓荊科技PECVD銷售收入占發行人主營業務收入比例較高，分別為77.98%、100.00%、97.55%和100.00%。目前，公司ALD、SACVD均處于產品發往不同客戶端進行產線驗證的市場開拓階段，形成批量銷售需經過不同客戶的驗證，周期存在不確定性。