先前美國考慮擴大限制美企生產的半導體制造關鍵設備出口中國大陸范圍，從邏輯芯片延伸至存儲器芯片，路透最新報導則披露，拜登政府計劃10月將對中國大陸實施更廣泛的半導體出口限制。

 

對此，外交部回應表示，美方這么做完全是科技霸權主義，美國是企圖利用自己的科技優(yōu)勢遏制打壓新興市場和發(fā)展中國家。美方嘴里說的是要公平競爭，要基于規(guī)則，實際上做的是美國優(yōu)先，實力至上。美國就是希望把包括中國在內的廣大發(fā)展中國家永遠控制在產業(yè)鏈的低端，這種做法不具建設性。

 

在晶圓代工領域，業(yè)界有分析稱，14nm以下半導體設備主要是歐美和日本廠商的天下，加上美國在EDA軟件部分也對大陸14nm以下制程設計工具進行了制裁，導致大陸在先進制程方面軟硬件兩方面都面臨困境。

 

據研究機構TrendForce的報告指出，以全球各區(qū)域12英寸約當產能來看，2025年時，全球7納米以下先進制程產能以中國臺灣占比約69%最高，其后依次為韓國18%、美國12%、大陸1%。相較2022年的格局，顯見美國未來三年將提升先進制程產能占比，中國大陸將仍以成熟制程為主軸。

 

所以，可以想見，未來大陸半導體市場想要在先進制程方面有所突破是非常難的，需要在軟硬件兩方面雙管齊下才可能有突圍的機會。

 

近日，就有消息稱上海精測半導體第三批前道光學測量設備從新廠順利出貨，再度交付于華北大客戶。此次出貨的EFILM®系列光學膜厚測量設備和EPROFILE®系列光學關鍵尺寸測量設備，能夠滿足多方面測量需求。

 

為此，上海精測半導體于2022年1月10日申請了一項名為“一種光學測量數(shù)據分析方法、分析系統(tǒng)及電子設備”的發(fā)明專利。上海精測半導體的光學測量專利，通過將偏差指數(shù)和相關系數(shù)都納入光譜匹配度指標中，提高了光譜分析的準確度和普適性，能夠基于量測結果的異常判斷結果在線監(jiān)測半導體加工工藝是否達標，大幅提高了半導體加工良率判斷的準確度。

 

同時，國內EDA廠商京華大九天科技股份有限公司在投資者關系活動中透露，其模擬全流程系統(tǒng)目前能夠完整支持28nm及以上的成熟工藝，正在大規(guī)模推廣應用；同時在模擬全流程系統(tǒng)的基礎上，正在面向全定制領域開發(fā)相關全流程工具。數(shù)字領域也正在開發(fā)相關的核心工具，預計到2025年左右完成設計類所需全流程工具系統(tǒng)的建設。

 

此外，華大九天也表示，在電路仿真工具方面，其攻克了電路仿真器的核心技術——超大規(guī)模矩陣求解技術，在不損失精度的前提下，性能比競品提升1-2個量級；并且在業(yè)內率先采用異構計算技術，可以進一步大幅提升產品的性能，非常適合那些仿真精度和性能要求較高的模擬芯片設計，已經得到數(shù)百家模擬芯片設計公司的認可。同時華大九天也圍繞仿真技術產生了一系列衍生應用，如可靠性分析、良率分析、IP建庫工具等。

 

可以看到，國內的半導體設備和EDA廠商也在不斷努力和創(chuàng)新，雖然目前距離世界領先廠商還有一定距離，但一步一個腳印，總有齊頭并進的時刻。

 

(來源：半導體技術天地)