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半導(dǎo)體所等研究團隊合作在氮化物外延方法及新型器件研究中取得系列進展

日期:2022-10-14 閱讀:267
核心提示:半導(dǎo)體所照明研發(fā)中心劉志強研究員與半導(dǎo)體所半導(dǎo)體超晶格國家重點實驗室、北京大學(xué)、北京石墨烯研究院等單位合作,在氮化物外延

半導(dǎo)體所照明研發(fā)中心劉志強研究員與半導(dǎo)體所半導(dǎo)體超晶格國家重點實驗室、北京大學(xué)、北京石墨烯研究院等單位合作,在氮化物外延及熱電能源器件領(lǐng)域取得系列研究進展,驗證了氮化物異質(zhì)異構(gòu)單晶外延的可行性,提出了氮化物位錯控制新思路,拓展了氮化物在高溫?zé)犭婎I(lǐng)域的應(yīng)用。

成果1:二硫化鎢-玻璃晶圓上生長的連續(xù)單晶氮化鎵薄膜 

實現(xiàn)不依賴于襯底晶格的氮化物材料外延,有望突破襯底限制,融合寬禁帶半導(dǎo)體材料與其他半導(dǎo)體材料的性能優(yōu)勢,為器件設(shè)計提供新的自由度。

近期,半導(dǎo)體所劉志強研究員、魏同波研究員、北京大學(xué)高鵬教授、北京大學(xué)-北京石墨烯研究院劉忠范院士團隊強強聯(lián)手共同合作。利用與氮化物晶格匹配的過渡金屬硫化物為緩沖層,構(gòu)筑人工生長界面,實現(xiàn)了非晶玻璃晶圓上的單晶薄膜制備,并實現(xiàn)了紫外發(fā)光器件的制備。該項工作以非晶襯底這一極端情況,驗證了氮化物異質(zhì)異構(gòu)單晶外延的可行性。相關(guān)成果以“Continuous Single-Crystalline GaN Film Grown on WS2-Glass Wafer“為題,發(fā)表于Small,并入選期刊內(nèi)封面。該研究工作得到了國家重點研發(fā)計劃,國家自然科學(xué)基金和半導(dǎo)體所青年人才項目的經(jīng)費支持。

DOI: 10.1002/smll.202202529 

 

圖1 WS2-玻璃晶圓上單晶GaN薄膜的生長[1]

 

 

 

成果2:基于石墨烯中間層的高度失配遠程異質(zhì)外延中應(yīng)力釋放和位錯減 少的原子機制

刃位錯是氮化物材料中的代表性缺陷類型,與另外一種典型缺陷-螺位錯相比,通常情況下其濃度要高一個數(shù)量級。刃位錯對氮化物發(fā)光、電子器件的性能均會產(chǎn)生重要影響。由于氮化物與異質(zhì)襯底之間固有的晶格失配,刃位錯的有效抑制手段非常有限。

近期,北京大學(xué)高鵬教授、半導(dǎo)體所劉志強研究員、楊身園副研究員、北京大學(xué)-北京石墨烯研究院劉忠范院士聯(lián)合研究團隊,采用遠程外延,實現(xiàn)了氮化物外延層中刃位錯的有效降低,在原子尺度上研究了應(yīng)力釋放和位錯密度降低的物理機制。發(fā)現(xiàn)無極性的石墨烯緩沖層可以削弱源于襯底的晶格勢場,使得外延層能夠在晶體取向得到控制的同時,其晶格也能相對自由地生長。因此,異質(zhì)外延中晶格失配引起的應(yīng)力得到了釋放,外延層刃位錯密度降低近一個數(shù)量級。在這種低應(yīng)力的GaN模板上,研究人員成功制備了高In組份的InGaN/GaN量子阱,實現(xiàn)了黃光波段LED器件。相關(guān)成果以“Atomic Mechanism of Strain Alleviation and Dislocation Reduction in Highly Mismatched Remote Heteroepitaxy Using a Graphene Interlayer”為題,發(fā)表于Nano Letters 上。該研究工作得到了國家重點研發(fā)計劃、國家自然科學(xué)基金、中國科學(xué)院青年創(chuàng)新促進會和半導(dǎo)體所青年人才項目的經(jīng)費支持。

Nano Letters 22, 3364-3371(2022)

 

 

成果3:氮化鎵模板上石墨烯輔助外延的高質(zhì)量氮化鎵薄膜 

氮化物材料由于生長方法的限制具有高密度的穿透位錯,這些穿透位錯會充當(dāng)非輻射復(fù)合中心和漏電通道,對氮化物基光電器件和電力電子器件的性能有嚴(yán)重的負面影響。

近期,半導(dǎo)體所劉志強研究員、梁萌副研究員、李晉閩研究員聯(lián)合團隊,采用二維材料石墨烯輔助外延的方法,實現(xiàn)了低應(yīng)力、低位錯密度的高質(zhì)量GaN薄膜的外延生長,并揭示了石墨烯在界面處降低外延層中穿透位錯密度的機制。發(fā)現(xiàn)石墨烯可以部分屏蔽襯底勢場,襯底勢場實現(xiàn)界面晶格調(diào)控的同時,其表面勢場波動一定程度被削弱。因此外延層可以通過原子滑移釋放部分應(yīng)力,實現(xiàn)應(yīng)力的自發(fā)馳豫。引入石墨烯二維晶體后,GaN模板中因穿透位錯導(dǎo)致的晶格畸變在外延界面得以恢復(fù),表現(xiàn)為石墨烯在界面處阻擋了穿透位錯向上的擴散,因此獲得了比相同襯底同質(zhì)外延位錯密度更低的GaN薄膜。相關(guān)成果以“Graphene-Assisted Epitaxy of High-Quality GaN Films on GaN Templates”為題,在線發(fā)表于Advanced Optical Materials上,該研究工作得到了國家重點研發(fā)計劃、國家自然科學(xué)基金的經(jīng)費支持和半導(dǎo)體所青年人才項目的經(jīng)費支持。

DOI: 10.1002/adom.202201262

 

 

 成果4:高功率效率氮化物熱電器件 

能源是社會經(jīng)濟發(fā)展永恒的主題,工業(yè)生產(chǎn)中消耗化石燃料產(chǎn)生能量的約70%以廢熱的形式被排放。熱電轉(zhuǎn)換技術(shù)能夠可逆地將廢熱轉(zhuǎn)換成電能,在提高能源利用效率和回收廢棄能源方面具有重要的意義。然而,傳統(tǒng)的窄禁帶半導(dǎo)體材料存在高溫下少數(shù)載流子激發(fā)導(dǎo)致的溫差電動勢抑制效應(yīng),工作溫度較低。以GaN為代表的III族氮化物在高溫?zé)犭姺矫嬲宫F(xiàn)出巨大的應(yīng)用潛力。由于決定熱電性能的塞貝克系數(shù)S、電導(dǎo)率σ、熱導(dǎo)率k之間相互耦合和制約的關(guān)系,合理設(shè)計材料結(jié)構(gòu),采取最優(yōu)化方案提高ZT值,一直是熱電研究的重要課題。

中科院半導(dǎo)體所劉志強研究員、梁萌副研究員、北京科技大學(xué)能源與環(huán)境工程學(xué)院孫方遠副教授、中科院半導(dǎo)體所李晉閩研究員聯(lián)合團隊,探索了合金化和低維超晶格結(jié)構(gòu)對載流子和聲子輸運的調(diào)控作用,實現(xiàn)了電子、聲子輸運的有效解耦,成功制備了熱電器件。ZT值優(yōu)于同類器件的文獻報道。該工作拓展了III族氮化物在熱電方面的應(yīng)用,提供了一種非常有前途的高溫?zé)犭娖骷鉀Q方案。相關(guān)成果以“High Power Efficiency Nitrides Thermoelectric Device”為題,在線發(fā)表于Nano Energy 上。該研究工作得到了國家重點研發(fā)計劃、國家自然科學(xué)基金和中科院半導(dǎo)體所青年人才項目的經(jīng)費支持。

Nano Energy 101, 107568(2022)

 

 

(來源:DT半導(dǎo)體)

 

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