據(jù)了解，Primo D-RIE®刻蝕設備被全球領先的芯片制造商用于制造存儲和邏輯器件。客戶非常看重該設備在大規(guī)模生產中穩(wěn)定可靠的性能表現(xiàn)、顯著提升的生產率和相對較低的生產成本方面的優(yōu)勢。為優(yōu)化產量而設計，Primo D-RIE®可以配置多達三個雙反應臺反應腔，每個反應腔既可以獨立操作，又可以同時加工兩片晶圓。此外，該設備的突出特點還包括：中微公司具有獨立自主知識產權的甚高頻和低頻混合射頻去耦合反應等離子體源、等離子體隔離環(huán)、用于控制腔體內反應環(huán)境的先進工藝組件。

 

 

自2007年Primo D-RIE®發(fā)布以來，中微公司陸續(xù)拓展了CCP刻蝕設備產品線，以滿足客戶日益嚴苛的技術需求。除Primo D-RIE®雙反應臺刻蝕設備以外，CCP刻蝕設備系列還包括雙反應臺刻蝕設備Primo AD-RIE®、單反應臺刻蝕設備Primo SSC AD-RIE®、Primo HD-RIE®和刻蝕及除膠一體化的 Primo iDEA®。這些產品為客戶提供了全面綜合的設備解決方案，用于5納米及以下工藝的多種應用。中微公司的刻蝕設備產品線還包括其他兩款電感耦合低能等離子體（ICP）刻蝕設備和硅通孔（TSV）刻蝕設備。

 

中微公司等離子體刻蝕設備獨特的創(chuàng)新技術和不斷快速增長的市場占有率鞏固了在國內外半導體前道設備行業(yè)的領先地位，并推動公司持續(xù)發(fā)展。今年到目前為止，用于3D NAND應用的Primo HD-RIE和用于7納米及以下節(jié)點邏輯應用的Primo AD-RIE-e占設備總出貨量的50%。其中，中國大陸和臺灣地區(qū)占比最高。中微公司今年前三個季度的銷售收入比去年同期增長了40.4%，其中刻蝕設備的銷售增長率約100%。

 

中微公司集團副總裁兼等離子體刻蝕產品事業(yè)總部總經(jīng)理倪圖強博士將這一付運里程碑和公司的穩(wěn)步增長歸功于公司的“客戶至上”營運原則，他指出：“中微公司的創(chuàng)新技術和世界一流的專業(yè)技能使我們的刻蝕設備產品備受領先廠商青睞，我們?yōu)榇烁械阶院馈椭蛻魧崿F(xiàn)他們的技術和盈利目標激勵著中微公司從管理團隊到基層的每一位員工，并影響著整個產品生命周期的每一個環(huán)節(jié)——從產品設計、設備方案定制到我們的專業(yè)現(xiàn)場工程師提供全方位的服務。我們非常感謝客戶給予中微公司和產品的信任，我們今天取得的里程碑離不開客戶的長期支持。”

 

注：Primo D-RIE®、Primo AD-RIE®、Primo HD-RIE®、Primo SSC AD-RIE®和Primo iDEA®是中微公司的注冊商標。