近日,由第三代半導體產業技術創新戰略聯盟(CASA)、國家半導體照明工程研發及產業聯盟(CSA)聯合主辦,北京麥肯橋新材料生產力促進中心有限公司與半導體產業網共同承辦的第七屆國際第三代半導體論壇暨第十八屆中國國際半導體照明論壇(IFWS & SSLCHINA 2021)在深圳會展中心舉行。
(內容根據現場資料整理,如有出入敬請諒解!)
期間, “IFWS 2021:碳化硅功率器件與封裝應用論壇“成功召開。會議由蕪湖啟迪半導體有限公司、中國電子科技集團公司第四十八研究所、北京北方華創微電子裝備有限公司、德國愛思強股份有限公司協辦支持。

▲北京北方華創微電子裝備有限公司LED及化合物半導體行業發展部總經理王顯剛
會上,北京北方華創微電子裝備有限公司LED及化合物半導體行業發展部總經理王顯剛分享了“化合物半導體工藝設備解決方案”主題報告。
北京北方華創微電子裝備有限公司經過二十年的發展,北方華創已成為國內領先的半導體裝備制造與服務商。在化合物半導體領域,NAURA定制開發了化合物半導體刻蝕機、PECVD系統、槽式清洗系統和臥式擴散/氧化系統,為客戶提供全面的設備及工藝解決方案。北方華創專注器件工藝研發,包括SiN/GaN 慢速低損傷刻蝕設備,SiC通孔高速刻蝕設備,高致密、低應力的PECVD薄膜沉積設備等均已在國內多條主流生產線上批量應用。
在SiC量產線上,應用于SiC功率器件的Etch、PVD、清洗設備、PEVCD、臥式爐等關鍵工藝設備在國內主流產線上也已大規模應用。國內首臺量產型SiC高溫氧化退火/高溫激活立式爐在客戶端實現量產應用;公司的SiC長晶爐已在客戶端批量投入使用。
北京北方華創微電子裝備有限公司經過二十年的發展,北方華創已成為國內領先的半導體裝備制造與服務商。在化合物半導體領域,NAURA定制開發了化合物半導體刻蝕機、PECVD系統、槽式清洗系統和臥式擴散/氧化系統,為客戶提供全面的設備及工藝解決方案。北方華創專注器件工藝研發,包括SiN/GaN 慢速低損傷刻蝕設備,SiC通孔高速刻蝕設備,高致密、低應力的PECVD薄膜沉積設備等均已在國內多條主流生產線上批量應用。
在SiC量產線上,應用于SiC功率器件的Etch、PVD、清洗設備、PEVCD、臥式爐等關鍵工藝設備在國內主流產線上也已大規模應用。國內首臺量產型SiC高溫氧化退火/高溫激活立式爐在客戶端實現量產應用;公司的SiC長晶爐已在客戶端批量投入使用。
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