面對全球芯片短缺，英特爾、臺積電、三星等全球主要的半導體制造商紛紛擴大產能。3月29日，據路透社消息，全球光刻機龍頭大廠ASML也要增產了。

 

ASML在其新加坡工廠的開幕式上宣布，將繼續在該工廠興建第二座制造車間，預計將于2023年初投產。擴建后的工廠將讓該公司在新加坡的產能增加3倍，全球產能倍增。

 

ASML此舉或有助于緩解全球芯片產能緊缺現狀。近日，ASML CEO Peter Wennink曾表示：“未來兩年芯片設備將出現短缺，今年我們將比去年出貨更多的光刻機，明年比今年多。但如果需求曲線顯示這還不夠，確實需要將產能提高50%以上，但這需要時間。”

 

Peter Wennink認為，半導體行業需要大量投資來增加產能，ASML正在與供應商一起評估如何增加產能。但Peter Wennink也坦言，目前還不清楚所需的投資規模，ASML擁有700家產品相關供應商，其中200家是關鍵供應商。所以，ASML能否順利快速提升產能，還將很大程度上取決于供應鏈合作伙伴能否持續跟進。

 

業界資料顯示，當下全球僅有阿斯麥（ASML）能制造出 EUV光刻機。過去的十年時間里，阿斯麥總共售出大約140套EUV光刻機，現在每一套系統的成本高達2億美元。

 

 

2017年，ASML的第一臺量產的EUV光刻機正式推出。此后三星的7nm/5nm工藝，臺積電的第二代7nm工藝和5nm工藝的量產均高度依賴于0.55數值孔徑的EUV光刻機來進行生產。

 

目前英特爾、臺積電、三星等頭部的晶圓制造廠商正大力投資更先進的3nm、2nm技術，以滿足高性能計算等先進芯片需求。而3/2nm工藝的實現則需要依賴于ASML新一代的高數值孔徑 （High-NA） EUV光刻機EXE:5000系列。

 

但是，High NA EUV光刻系統造價相比前代的EUV光刻機也更高了，達到了3億美元。

 

據了解，EXE:5000主要面向的是3nm工藝。而第二代的0.55 NA EUV光刻機TWINSCAN EXE:5200將會被用于2nm工藝的生產。

 

ASML官方表示，在2021年第四季度收到了一份TWINSCAN EXE:5000的訂單。自2018年以來，ASML已經收到四份TWINSCAN EXE:5000的訂單。

 

此外，今年1月19日，ASML宣布2022年一季度，其第二代High－NA光刻機TWINSCAN EXE：5200獲得了首個訂單，第二代High－NA光刻機被用于2NM制程芯片制造，有望在2024年實現交付。

 

結合2021年7月底，英特爾曾宣布將在2024年量產20A工藝（即2nm工藝），并透露其將率先獲得業界第一臺High－NA EUV光刻機。由此表明率先拿下首批第二代High－NA光刻機的企業或許正是英特爾。

 

此外，業界消息顯示，臺積電此前已經向ASML采購High－NA研發型EUV光刻機EXE：5000，在英特爾采購TWINSCAN EXE：5200后，臺積電預計在今年會跟進下單TWINSCAN EXE：5200。

 

據3月23日外媒報道，ASML官方表示，TWINSCAN EXE:5000將會在今年下半年出貨，每小時可生產185片晶圓。而TWINSCAN EXE:5200將會在2024年底出貨，每小時可生產超過220片晶圓。