南大光電近日發(fā)表公告稱，公司募投項目“光刻膠項目”受到多重因素影響，計劃將建設(shè)完成期限由原計劃2021年12月31日延長至2022年12月31日。公司將繼續(xù)通過統(tǒng)籌協(xié)調(diào)全力推進，力爭早日完成該項目建設(shè)。
具體原因方面，南大光電在公告中指出，項目在實際投入過程中受到新冠疫情、客戶驗證需求變化、公司實際經(jīng)營情況等多重因素的影響，尤其是項目所需的缺陷檢測等關(guān)鍵設(shè)備采購周期延長，安裝、調(diào)試工作也相應后移，導致該項目建設(shè)進度不及預期。
他們同時強調(diào)，截至2021年12月31日，項目已累計投入45,316.28萬元，全部由公司自有資金出資。寧波南大光電在2021年具體實施項目時，為滿足項目建設(shè)所需采購的付款進度需要，優(yōu)先使用了自有資金投入建設(shè)。本項目剩余資金缺口，公司將繼續(xù)使用募集資金15,000.00萬元滿足其投資需求。
據(jù)悉，南大光電ArF光刻膠開發(fā)和產(chǎn)業(yè)化，是為配合推動國家“02 專項”光刻膠技術(shù)開發(fā)及產(chǎn)業(yè)化項目的開展而設(shè)立，公司募投項目“光刻膠項目”總投資額為66,000.00萬元，計劃使用募集資金15,000.00萬元。項目實施主體為公司控股子公司寧波南大光電材料股份有限公司（以下簡稱“寧波南大光電”）。主要包括兩條建設(shè)內(nèi)容：
圖片來源：南大光電公告截圖
先進光刻膠及高純配套材料的開發(fā)和產(chǎn)業(yè)化
建設(shè)內(nèi)容為建立光刻膠配套高純顯影液的規(guī)模化生產(chǎn)線，包括合成、純化、分析、灌裝等工藝的配套生產(chǎn)裝置及分析檢測設(shè)備；另外還將建設(shè)國內(nèi)首個先進光刻膠分析測試中心，包含浸沒式光刻機、涂膠顯影一體機和 CD-SEM 等關(guān)鍵量測設(shè)備。項目完全達產(chǎn)后，將建成光刻膠研發(fā)中心、先進光刻膠的分析測試中心，以及年產(chǎn) 350噸的高純顯影液的生產(chǎn)線。
ArF光刻膠產(chǎn)品的開發(fā)和產(chǎn)業(yè)化
建立包含高等級超凈間在內(nèi)的ArF光刻膠生產(chǎn)線，具備ArF光刻膠產(chǎn)品的生產(chǎn)能力；建立ArF光刻膠配套關(guān)鍵組分材料的生產(chǎn)能力，完善光刻膠原材料的供應。項目完全達產(chǎn)后，將建成年產(chǎn)5噸ArF干式光刻膠的生產(chǎn)線、年產(chǎn)20噸ArF浸沒式光刻膠的生產(chǎn)線以及年產(chǎn)45噸的光刻膠配套高純試劑的生產(chǎn)線。
南大光電公告同時指出，公司擴建2,000噸/年三氟化氮生產(chǎn)裝置項目按原計劃繼續(xù)進行，建設(shè)期不變。
此外，近日在接受投資者提問“公司193nm光刻膠項目第二條生產(chǎn)線是否建設(shè)完畢，是否進行投產(chǎn)，如還未完工預計何時完工？”時，南大廣電表示，公司目前已經(jīng)建成了兩條arf光刻膠生產(chǎn)線，合計產(chǎn)能為25頓。而公司的arf光刻膠也有少量發(fā)貨。
公開資料顯示，193nm光刻膠作為當前高端芯片制造中最為核心的原材料，被譽為半導體工業(yè)的“血液”，可以用于90nm~14nm技術(shù)節(jié)點的集成電路制造工藝。
