3月12日，中微半導體設備（上海）股份有限公司（以下簡稱“中微公司”）宣布其等離子體刻蝕設備反應總臺數全球累計出貨超過5000臺。這包括CCP高能等離子體刻蝕機和ICP低能等離子體刻蝕機、單反應臺反應器和雙反應臺反應器共四種構型的設備。等離子體刻蝕機，是光刻機之外，最關鍵的、也是市場最大的微觀加工設備。由于微觀器件越做越小和光刻機的波長限制，也由于微觀器件從二維到三維發展，刻蝕機是半導體設備過去十年增長最快的市場。這一重要里程碑標志著中微公司在等離子體刻蝕設備領域持續得到客戶與市場的廣泛認可，也彰顯了公司在等離子體刻蝕領域已進入國際前列。

中微公司致力于為全球集成電路和LED芯片制造商提供領先的加工設備和工藝技術解決方案。中微公司開發的CCP高能等離子體和ICP低能等離子體刻蝕兩大類，包括十幾種細分刻蝕設備已可以覆蓋大多數刻蝕的應用。中微公司的等離子體刻蝕設備已被廣泛應用于國內和國際一線客戶，從65納米到5納米及更先進工藝的眾多刻蝕應用。中微公司最近十年著重開發多種導體和半導體化學薄膜設備，如MOCVD，LPCVD，ALD和EPI設備。

中微公司的刻蝕設備在過去的20年積累了大量的芯片生產線量產數據和客戶驗證數據，已經可以覆蓋絕大多數的刻蝕應用，包括各種高端的應用。中微公司的等離子體刻蝕設備不斷擴大市場占有率，該公司的CCP高能等離子刻蝕設備和ICP低能等離子體刻蝕設備的出貨量近年來都保持高速增長。CCP設備在線累計裝機量近四年年均增長大于37%，已突破4000個反應臺；ICP設備在線累計裝機量近四年年均增長大于100%，已突破1000個反應臺。截至2025年2月底，公司累計已有超過5400個反應臺在國內外130多條生產線，全面實現了量產和大規模重復性銷售。

據業績快報顯示，中微公司2024年營業收入約90.65億元，較2023年增加約28.02億元。該公司在過去13年保持營業收入年均增長大于35%，近四年營業收入年均增長大于40%的基礎上，2024年營業收入又同比增長約44.73%。其中，刻蝕設備收入約72.77億元，在最近四年收入年均增長超過50%的基礎上，2024年又同比增長約54.73%。

（來源：集微網）