據寧波前灣新區發布消息，3月19日上午，寧波冠石半導體光掩模版制造項目舉行新品發布暨通線活動。
寧波冠石半導體是一家專業從事半導體光掩模版制造的企業。寧波冠石光掩模版制造項目2023年5月16日簽約，同年10月1日落地開工，2024年1月27日落成結頂，如今項目通線投產，用時不到兩年，完成固定資產投資超10億元，畝均有效投資強度超1500萬元。
2024年7月消息，寧波冠石半導體有限公司迎來關鍵節點，該企業引入首臺電子束掩模版光刻機。據悉，該設備是光掩模版40納米技術節點量產及28納米技術節點研發的重點設備。
據悉，光掩模版是微電子制造中光刻工藝所使用的圖形轉移工具或母版，其功能類似于相機的“底片”。作為半導體產業鏈上游重要的原材料之一，光掩模版是承載圖形設計和工藝技術等知識產權信息的載體。目前，我國高精度半導體光掩模版產品主要仍依賴于進口，國產化率極低。
目前，寧波冠石已實現55nm光掩模版產品交付及40nm產線通線，該企業產品將廣泛應用于人工智能、高性能計算、新能源汽車、消費電子等集成電路制造領域。
