上海新陽半導體材料股份有限公司（以下簡稱“公司”）自立項開發 193nm ArF干法光刻膠的研發及產業化項目以來，安排購買了ASML-1400光刻機等核心設備，并于2020年12月14日在《關于公司申請向特定對象發行股票的審核問詢函的回復》中披露，該光刻機將于 2020 年底前運抵國內。后由于公司與光刻機供應商、北方集成電路技術創新中心（北京）有限公司（以下簡稱“合作方”）溝通協調設備運輸與安裝等細節，致使設備沒能在規定時間內運達，但與合作方就具體合作細節簽署了《合作框架協議》，并發布了《關于ASML-1400光刻機進展暨簽訂<合作框架協議>的公告》，預計該光刻機將于2021 年 3 月底前進入合作方現場，詳見公司于2021年1月5日發布的相關公告。

 

現經各方積極協商、運作，該光刻機設備于今日已進入合作方北方集成電路技術創新中心（北京）有限公司場地，后續將進行安裝調試等相關工作。