據悉，近日，華中科技大學（華中大）披露，華中大機械學院劉世元教授團隊成功研發我國首款完全自主可控的OPC軟件。

 

光刻是芯片制造中最為關鍵的一種工藝，通過光刻成像系統，將設計好的圖形轉移到硅片上。隨著芯片尺寸不斷縮小，硅片上的曝光圖形會產生畸變。在90nm甚至180nm以下芯片的光刻制造前，都必須采用一類名為OPC（光學臨近校正）的算法軟件進行優化。沒有OPC，所有IC制造廠商將失去將芯片設計轉化為芯片產品的能力。

 

劉世元介紹，“沒有OPC，即使用了光刻機，也造不出芯片。”OPC軟件即“光學鄰近校正軟件”，是芯片設計工具EDA的一種。

 

目前，全球OPC工具軟件市場完全由Synopsys、Mentor、ASML-Brion等三家美國公司占領。如今，隨著華中大科研團隊成功研發全國首款OPC軟件，填補了國內空白，未來也將助力我國芯片制造業發展。

 

據悉，劉世元是華中大光學與電子信息學院、機械科學與工程學院雙聘教授，擔任華中大集成電路測量裝備研究中心主任，也是光谷實驗室集成電路測量檢測技術創新中心主任。

 

劉世元表示，今后，將帶領團隊加快產品推廣步伐，加快進入國內外芯片制造廠商市場，力爭成為全球芯片產業鏈中重要的一環。