俄羅斯圣彼得堡理工大學(xué)（SPbPU）的研究人員開發(fā)了一種國產(chǎn)光刻復(fù)合設(shè)備，用于利用蝕刻生產(chǎn)無掩模芯片，這對于俄羅斯微電子實(shí)現(xiàn)自給自足至關(guān)重要。其中一種設(shè)備的成本為500萬盧布（4.95萬美元），另一種設(shè)備的成本未知。

該綜合體由兩種設(shè)備組成。第一個設(shè)備專為“無掩模納米光刻”而設(shè)計，它無需掩模即可將圖像投影到基板上。第二個設(shè)備建立在第一個設(shè)備制作的基板圖案基礎(chǔ)上，負(fù)責(zé)利用蝕刻形成納米結(jié)構(gòu)。此外，該裝備可以為船舶超壓傳感器等應(yīng)用制作硅膜。值得注意的是，這些膜被認(rèn)為比其他方法生產(chǎn)的膜更可靠、更靈敏。

目前，俄羅斯芯片生產(chǎn)僅限于65nm工藝技術(shù)。與此同時，全球標(biāo)準(zhǔn)已經(jīng)縮減至3nm工藝。另外值得注意的是，下諾夫哥羅德應(yīng)用物理研究所（IAP RAS）的目標(biāo)是開創(chuàng)一種能夠生產(chǎn)7nm芯片的光刻技術(shù)，盡管要等到2028年才能實(shí)現(xiàn)。為了推動這一勢頭，俄羅斯工業(yè)貿(mào)易部已投資11億盧布用于開發(fā)微電子專用光刻材料。

除了制造芯片或硅膜之外，這兩種設(shè)備還可以使其他行業(yè)受益匪淺。例如，它們可以將雷達(dá)設(shè)備的使用壽命延長20倍以上。在綠色能源領(lǐng)域，這些設(shè)備可以使太陽能電池板小型化，使其更輕并提高其效率。

開發(fā)人員對他們的發(fā)明有著宏偉的愿景。他們正在考慮將人工智能（AI）融入這兩臺設(shè)備中，以增強(qiáng)它們的能力。然而，目前尚不清楚俄羅斯芯片制造商是否對這些設(shè)備感興趣，也沒有明確的時間表表明這些設(shè)備將何時投入實(shí)際生產(chǎn)中。

（來源：集微網(wǎng)）