俄羅斯圣彼得堡理工大學（SPbPU）的研究人員開發了一種國產光刻復合設備，用于利用蝕刻生產無掩模芯片，這對于俄羅斯微電子實現自給自足至關重要。其中一種設備的成本為500萬盧布（4.95萬美元），另一種設備的成本未知。

該綜合體由兩種設備組成。第一個設備專為“無掩模納米光刻”而設計，它無需掩模即可將圖像投影到基板上。第二個設備建立在第一個設備制作的基板圖案基礎上，負責利用蝕刻形成納米結構。此外，該裝備可以為船舶超壓傳感器等應用制作硅膜。值得注意的是，這些膜被認為比其他方法生產的膜更可靠、更靈敏。

目前，俄羅斯芯片生產僅限于65nm工藝技術。與此同時，全球標準已經縮減至3nm工藝。另外值得注意的是，下諾夫哥羅德應用物理研究所（IAP RAS）的目標是開創一種能夠生產7nm芯片的光刻技術，盡管要等到2028年才能實現。為了推動這一勢頭，俄羅斯工業貿易部已投資11億盧布用于開發微電子專用光刻材料。

除了制造芯片或硅膜之外，這兩種設備還可以使其他行業受益匪淺。例如，它們可以將雷達設備的使用壽命延長20倍以上。在綠色能源領域，這些設備可以使太陽能電池板小型化，使其更輕并提高其效率。

開發人員對他們的發明有著宏偉的愿景。他們正在考慮將人工智能（AI）融入這兩臺設備中，以增強它們的能力。然而，目前尚不清楚俄羅斯芯片制造商是否對這些設備感興趣，也沒有明確的時間表表明這些設備將何時投入實際生產中。

（來源：集微網）