據報導，全球頂級半導體研發公司之一的比利時微電子研究中心(IMEC) 宣布，其與ASML的聯合實驗室在電腦芯片制造方面取得多項突破。該實驗使用的是ASML最新的高數值孔徑極紫外光刻機(High-NA EUV)，該設備價值高達3.5 億歐元(3.82 億美元)。

IMEC表示，通過ASML先進設備High-NA EUV，已成功單次印刷出邏輯芯片和存儲器芯片的電路，其尺寸一樣小或小于目前商業生產中最先進的電路。

這一進展表明，領先的芯片制造商能夠按照計劃在未來幾年內使用ASML最新設備制造出更小、運算速度更快的芯片。

IMEC執行長范登霍夫(Luc Van den hove) 聲明表示：「High-NA EUV 對邏輯和存儲技術的持續發展起到重要作用。」

IMEC 指出，芯片制造過程其余部分所需的許多其他化學品和工具也在該次測試內，而且似乎適合商業生產。

ASML是電腦芯片制造商最大的設備供應商，這要歸功于其在光刻機(一種利用光束幫助制造電路的大型機器) 方面的主導地位。

高數值孔徑極紫外光刻機有步驟更少且能印刷出更小電路，應該能替芯片制造商節省資金，還能證明該設備昂貴的價格是合理的。

路透本周一曾報導，英特爾將采購首批兩臺高數值孔徑極紫外光刻機，第三臺預估將于今年晚些時候交付給替英偉達和蘋果生產芯片的臺積電。

英特爾高層Mark Philips 在一封電子郵件中向路透表示：「第二臺機器能用來支持開發生產線所需的晶圓數量與實驗。」

此外三星電子、SK 海力士、美光等半導體企業也訂購高數值孔徑極紫外光刻機。