近日，杭州富加鎵業科技有限公司（以下簡稱：富加鎵業）在氧化鎵MOCVD同質外延技術方面再次取得突破，經國家權威檢測機構——中國計量科學研究院測試表明，厚度超10μm的氧化鎵同質外延片載流子濃度為4.2E16cm-3，遷移率達到181.6cm2/V·s。基于MOCVD技術的高質量氧化鎵同質外延片的研制成功，將有效助力氧化鎵高壓大功率電力電子器件產業的快速落地。

2025年3月，富加鎵業基于自主生產的氧化鎵襯底產品，利用MOCVD技術，已經實現了10μm以上厚度的氧化鎵同質外延片遷移率達到172.7 cm2/V·s技術重大突破（富加鎵業氧化鎵MOCVD同質外延技術取得突破，助力下游垂直功率電子器件產業落地）；在此基礎上，研究人員進一步優化了MOCVD外延過程中背景雜質控制，精確調控摻雜濃度，提升氧化鎵同質外延薄膜質量。相關標準化外延產品（規格書如下）已于2025年6月同步上市，更好服務于氧化鎵器件廠家及下游用戶。

杭州富加鎵業科技有限公司成立于 2019年 12 月 31 日，是杭州光學精密機械研究所注冊成立的第一家“硬科技〞企業，公司以“讓世界用上好材料”為愿景，開展寬禁帶半導體氧化鎵材料的產業化工作，核心產品為氧化鎵單晶襯底、MOCVD外延片、MBE外延片、氧化鎵晶體生長及加工裝備，產品主要服務于功率器件、微波射頻及光電探測等領域。2022年獲得浙江省科技型中小企業；2023年獲得國家高新技術企業；2024年獲得杭州市企業高新技術研發中心及浙江省專精特新中小企業；2025年獲得ISO9001質量體系認證（編號：20225Q20294R0M）；在氧化鎵領域，承擔了國家發改委項目1項，國家工信部項目1項，參與了國家自然科學基金委、浙江省、上海市等國家及省部級項目3項。另外，獲得國際專利授權12項（美國6項，日本6項），國內專利授權40項，“富加鎵業”商標認證注冊3項，軟件著作權（“一鍵長晶”控制軟件）4項。