據國外媒體報道，荷蘭ASML公司是全球唯一能生產EUV光刻機的公司，作為半導體行業光刻系統供應商的ASML（阿斯麥）去年交付了26臺極紫外光刻機（EUV），調查公司Omdia表示，其中約一半面向大客戶臺積電。

ASML ASML此前公布，2019年，共向客戶交付了26臺極紫外光刻機。其中，在第四季度交付了8臺。

ASML還透露，去年交付的26臺極紫外光刻機中，有9臺是最新型號，即NXE:3400C。

英國調查公司Omdia推測稱，ASML去年交付的26臺極紫外光刻機，大約一半面向臺積電。

臺積電2019年正式啟動7nm產品的量產，這只能通過波長極短的EUV進行操作。資料顯示，EUV光源波長比目前深紫外線微影的光源波長短少約15 倍，因此能達到持續將線寬尺寸縮小的目的。

在晶圓代工領域，臺積電掌握了全球約一半份額。

另外，三星電子、英特爾等也采購了ASML的極紫外光刻機設備。

ASML服務的客戶為全球主要的半導體制造商，打造在電力電子、通信和信息技術產品中廣泛應用的芯片。

ASML公司總部位于荷蘭的Veldhoven市。生產基地和研發設施則位于康涅狄格州、加州、中國臺灣和荷蘭。科技發展中心及訓練設施位于日本、韓國、荷蘭、中國臺灣和美國。

ASML在阿姆斯特丹泛歐證券交易所和納斯達克上市。周三收盤，ASML(NASDAQ:ASML)股價上漲2.2%至278.58美元，總市值約1169.51億美元。

ASML將在2021年推第二代EUV極紫外光刻機

ASML在2019年出售26臺EUV光刻機，主要為臺積電、三星的7nm及2020年開始量產的5nm工藝，該公司預計2020年將出貨35臺EUV光刻機。

目前，ASML出貨的光刻機主要是NXE:3400B及改進型的NXE:3400C，兩者基本結構相同，但NXE:3400C采用模塊化設計，維護更加便捷，平均維修時間從48小時縮短到8-10小時，支持7nm、5nm兩種工藝。此外，NXE:3400C的產能也從之前的125WPH(每小時處理晶圓數)提升到了175WPH。

不論NXE:3400B還是NXE:3400C，目前的EUV光刻機還是第一代，主要特點是物鏡系統的NA(數值孔徑)為0.33。根據光刻機的分辨率公式，NA數字越大，光刻機精度還會更高，ASML現在還研發NA 0.55的新一代EUV光刻機EXE:5000系列，主要合作伙伴是卡爾蔡司、IMEC比利時微電子中心。

EXE:5000系列的下一代光刻機主要面向后3nm時代，目前三星、臺積電公布的制程工藝路線圖也就到3nm，2nm甚至1nm工藝都還在構想中，要想量產就需要新的制造裝備，新一代EUV光刻機是重中之重。

根據ASML的信息，EXE:5000系列光刻機最快在2021年問世，不過首發的還是樣機，真正用于生產還得等幾年，樂觀說法是2023年或者2024年才有可能看到NA 0.55的EXE:5000系列光刻機上市。